VIGA真空霧化粉末製造装置
真空霧化粉末製造装置の原理：
真空アトマイゼーションは、金属および金属合金を真空またはガス遮断条件下で溶融する技術です。溶融金属は断熱るつぼとガイドノズルを通って下方に流れ、ノズルから噴出する高圧ガス流によってアトマイズされ、多数の微細な液滴に分解されます。これらの微細な液滴は飛行中に球形または亜球形の粒子に凝固し、その後、ふるい分け・選別されて様々な粒径の金属粉末が生成されます。
金属粉末技術は現在、さまざまな業界で最も広く使用されている生産方法です。
粉末冶金法で製造される合金は、電子産業用の溶接・ろう付け用合金、航空機用のニッケル、コバルト、鉄含有高温合金、水素吸蔵合金、磁性合金、スパッタリングターゲット製造に使用されるチタンなどの活性合金など、幅広い用途があります。
金属粉末の製造工程には、活性金属および合金の溶融、アトマイズ、凝固が含まれます。酸化物還元や水アトマイズといった金属粉末の製造方法は、粒子形状、粒子形態、化学純度といった特殊な粉末品質基準によって制約されます。
不活性ガス噴霧法と真空溶解法を組み合わせた方法は、特定の品質基準を満たす高品質の粉末を製造するための主要な粉末製造プロセスです。
金属粉末の用途:
航空宇宙および電力工学用のニッケル基超合金。
はんだおよびろう付け材料。
耐摩耗コーティング
部品用のMIM粉末。
エレクトロニクス産業向けスパッタリングターゲットの製造。
MCRALY 抗酸化コーティング。
特徴：
1. 液滴は下降中に急速に固化し、偏析を克服して均一な微細構造を形成します。
2. 溶解方法はカスタマイズ可能で、るつぼを用いた中周波誘導溶解、るつぼを用いない中高周波溶解、るつぼ抵抗加熱溶解、アーク溶解などから選択できます。
3. セラミックまたはグラファイトるつぼを使用した合金材料の中周波誘導加熱は、精製および浄化技術を通じて材料の純度を効果的に向上させます。
4. 超音速タイトカップリングと閉じ込めガスアトマイジングノズル技術の使用により、さまざまな合金材料のマイクロ粉末を製造できます。
5. 2 段階サイクロン分類および収集システム設計により、微粉末の収量が向上し、微粉塵の排出が削減または排除されます。
真空噴霧粉末製造ユニットの構成：
真空アトマイゼーション粉末製造システム（VIGA）の標準設計には、真空誘導溶解（VIM）炉が含まれており、ここで合金が溶解、精錬、脱ガスされます。精錬された溶融金属は、予熱されたタンディッシュを通ってジェットパイプシステムに注入され、そこで高圧不活性ガス流によって溶融流が分散されます。得られた金属粉末は、アトマイズノズルの直下に位置するアトマイズタワー内で固化します。粉末とガスの混合物は、送出パイプを通ってサイクロンセパレーターに送られ、そこで粗粉と微粉がアトマイズガスから分離されます。金属粉末は、サイクロンセパレーターの直下に設置された密閉容器に集められます。
範囲は、実験室グレード（るつぼ容量 10 ～ 25 kg）、中間生産グレード（るつぼ容量 25 ～ 200 kg）から大規模生産システム（るつぼ容量 200 ～ 500 kg）まで多岐にわたります。
ご要望に応じてカスタマイズされた機器もご利用いただけます。
