真空浸炭炉

真空浸炭は、ワークピースを真空中で加熱することです。臨界点を超える温度に達すると、一定時間留まり、脱気して酸化膜を除去し、精製した浸炭ガスを通過させて浸炭と拡散を行います。真空浸炭の浸炭温度は1030℃と高く、浸炭速度は速い。浸炭部品の表面活性は、デガッシングと脱酸によって改善されます。その後の拡散速度が速すぎます。浸炭と拡散は、必要な表面濃度と深さに達するまで、繰り返し交互に実行されます。


製品の詳細

製品タグ

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真空浸炭は、ワークピースを真空中で加熱することです。臨界点を超える温度に達すると、一定時間留まり、脱気して酸化膜を除去し、精製した浸炭ガスを通過させて浸炭と拡散を行います。真空浸炭の浸炭温度は1030℃と高く、浸炭速度は速い。浸炭部品の表面活性は、デガッシングと脱酸によって改善されます。その後の拡散速度が速すぎます。浸炭と拡散は、必要な表面濃度と深さに達するまで、繰り返し交互に実行されます。

 

真空浸炭の深さと表面濃度を制御できます。金属部品の表層の冶金学的特性を変化させる可能性があり、その有効浸炭深さは他の方法の実際の浸炭深さよりも深くなります。

製品説明

シングルチャンバー水平低圧浸炭ガス焼入れ炉(空冷縦型ガスフロータイプ)浸炭、ガス焼入れ、圧力など多くの機能があります空冷。

応用

この炉は主に金型鋼の焼入れ、焼鈍、焼戻しに使用されます。ステンレス鋼、高速度鋼、1回限りの高浸炭のような高濃度プロセス、パルスカルブリザイジングなど。

特徴

1.高度なインテリジェントで効率的。特別に開発された真空低圧浸炭シミュレーションソフトウェアを搭載しています。

2.高い冷却速度。高効率の正方形熱交換器を使用することにより、冷却速度が80%向上します。

3.良好な冷却均一性。ダブルファンからの対流による均一冷却

4.良好な温度均一性。発熱体は、加熱室の周りに360度均等に配置されます。

5.カーボンブラックによる汚染はありません。加熱室は、浸炭工程でのカーボンブラックの汚染を防ぐために、外部断熱構造を採用しています。

6.長い耐用年数、カーボンフェルトを断熱層として使用加熱室。

7.浸炭層の厚さの均一性が良好で、浸炭ガスノズルが加熱室の周囲に均一に配置され、浸炭層の厚さが均一です。

8.浸炭ワークの変形が少なく、生産効率が高く、エネルギーコストが40%以上節約されます。

9.スマートで簡単なプロセスプログラミング、安定した信頼性の高い機械的動作、自動、半自動、また​​は手動で障害を警告および表示します。

10.周波数変換制御ガス焼入れファン、オプションの対流空気加熱、オプションの9ポイント温度調査、いくつかのグレードおよび等温焼入れ。

11.AI制御システム全体と追加の手動オペレーティングシステムを使用。

 

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